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      “反光” 洪浩个展

          (1/4)“反光” 洪浩个展

          (2/4)《往复之六》水彩, 铅笔, 丙烯, 绢布 170×170cm 2014年

          (3/4)《反光之四》画布丙烯, 辅助材料 100×160cm 2015年

          (4/4)《反光之五》画布丙烯, 辅助材料 120×160cm 2015年

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          展览名称:“反光” 洪浩个展
          展览时间:2015/07/03~2015/08/06
          展览地点:[香港]-香港中环皇后大道中30 号娱乐行15 楼-(佩斯香港)
          主办单位:佩斯香港
          参展艺术家:洪浩

        佩斯将首次于香港推出中国当代艺术家洪浩的个展“反光”。此次个展将展出艺术家的一系列新作,包括“往复”与“反光”系列。展览将于7月3日持续展出至8月6日,开幕酒会则将于7月3日周五晚间6至8时向公众开放。

        继2013年洪浩于佩斯北京举行大型回顾个展后,此次新个展将首次展出艺术家在版画、拼贴、影像装置等媒材之外创作的平面画布作品。这组作品延伸发展了艺术家扫描创作的概念,通过收集、扫描、输出再手绘等手法破除了媒介之间的界线,以达成一个“去物质化”的过程,而绘画行为的加入则完整了这个提炼过程。

        洪浩在创作过程中从未有意排列图案,但最终呈现的结果却有着极强的内在秩序感。这种秩序透露出艺术家自身的克己主义,同时也使得这组作品的创作过程与结果一样不容忽视:这组不断生长的创作系列已跨越十几年的时间维度,并且这个跨度是持续且从未间断过的。艺术家每日记录下自身的生活痕迹,有意地不对细节进行筛选,并定期将其排列汇总。在这个更看重耐力与自制力的过程中,艺术家磨练的并非是技法,而是内心。体现于作品中,我们看到画面视觉从具体的材质逐渐走向更本质的轮廓乃至线条,结合十几年的漫长过程,这种体现在作品中的“成长性”恰恰是艺术家内观自身的结果。如同以往广受艺术界关注的扫描拼贴作品一样,洪浩此次香港个展带来的平面画布作品有着更为纯粹的美学性思考。艺术家将事物的本质消失淡化而直指本形,并展现“去物质化”后物与物之间的空间与关系。同时这也映照出艺术家的理想,在经历种种的现实历练后,而再次反璞归真到初始的状态,却又比初生的状况蕴含了许多焠炼化的智能。

        在此次展出的“往复”系列中,艺术家将绘画的行为作为一个环节参与到物质的循环中,这些日常消费品诞生于平面,经过工业设计的美学观被工业流水线生产,并通过营销、消费等环节进入到日常生活,被人们使用的同时也影响甚至构成了现代人的生活方式。这种过程被艺术家以视觉的方式倒推回去,使其回归到了平面美学之上,完成了一个循环往复的经历。

        而2015年起创作的“反光”系列在表面呈现上更进一步地强调了笔触的反光感与表面的立体层次性,将个别物体的轮廓更加消解,仅剩下一群聚合物质的外轮廓。此系列的作品所呈现的是一个抽象的视觉,但这种抽象却源自非常具体的现实,它不仅体现着艺术家对于具象与抽象对立性的置疑,同时展现了其看待现实、理解价值的独特角度,这其中正呈现出艺术家自我意识的释放。

        展出艺术家洪浩(1965年,中国北京)于1989年毕业于中央美术学院版画系,目前工作和生活在北京。他自上世纪90年代起即频繁地在国内外重要展览中亮相。其中包括佩斯北京个展“洪浩”(2013);纽约前波画廊个展“洪浩之雅集”(2007)和“阅览室”(2003);法国阿尔勒国际摄影节“洪浩作品在阿尔勒国际摄影节”(2003)。并参加了德国ZKM当代艺术馆的“全球性的当代艺术:1989年后的艺术世界”(2011),纽约大都会博物馆举办的“此处彼处之间:当代摄影的通道”(2010),纽约现代美术馆举办的「书/书架」(2008),美国圣叠戈美术馆举办并巡回至上海美术馆和中国美术馆展出的“聚焦:中国当代摄影和录像”(2004-2005)等国际性大型群展。

        洪浩的作品同时也被许多西方重要美术馆收藏,如美国纽约现代艺术博物馆,美国大都会博物馆,英国大英博物馆,美国波士顿美术馆,加拿大国家美术馆,日本福冈亚洲美术馆,美国洛杉矶保罗盖蒂博物馆,尤伦斯当代艺术中心等等。


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